Для цитирования:

Зубов Д.Н., Соколов С.А., Еганова Е.М., Яковлев В.Б. Электронно-лучевая литография с использованием SiO₂ в качестве чувствительного слоя. Journal of Advanced Materials and Technologies. 2025;10(2):129-140. https://doi.org/10.17277/jamt-2025-10-02-129-140

For citation:

Zubov D.N., Sokolov S.A., Eganova E.M., Yakovlev V.B. Electron beam lithography using SiO₂ as a sensitive layer. Journal of Advanced Materials and Technologies. 2025;10(2):129-140. https://doi.org/10.17277/jamt-2025-10-02-129-140